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2021年2月18日
東レリサーチセンター
新規技術資料を掲載しました　（SIMSによるウェハ全厚みの不純物分布評価　他計4件）
分析事例

No.0455　SIMSによるウェハ全厚みの不純物分布評価
No.0456　アモルファスIGZO膜の物性・組成・構造解析
No.0457　LEISによる粉末上極薄膜の被覆率評価
No.0458　電子分光による半導体材料のイオン化ポテンシャル、バンドギャップの評価

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