このたび、最先端の二次イオン質量分析（SIMS）装置である「NanoSIMS 50L」を導入いたしました。プローブ径約50nmのイオンビームと、透過率の高い質量分析系の併用により、従来のSIMSに比べて格段に小さな領域において、高い検出感度でイメージング分析を行うことが可能です。半導体やセラミックスからライフイノベーション分野に至る様々なフィールドにおける活用を考えております。