加熱 <i>in-situ</i> TEMを用いた熱処理挙動の高分解能直接観察

12/16/2021

No.0556 加熱 in-situ TEMを用いた熱処理挙動の高分解能直接観察

加熱 in-situ ホルダーが開発されたことにより、TEM本体内部で試料を熱処理し、その熱処理挙動を高分解能で直接観察できるようになった。本手法を各種材料に適用した事例を紹介する。

加熱 in-situ TEM観察の概要

加熱 in-situ TEM
加熱用チップにTEM用薄片試料を載せ温度印加しながらTEM観察を行う
　
温度印加
・範囲：23 ℃(室温) ～1300 ℃
・数秒で昇温＆優れた安定性
・プログラムによる温度・時間制御

in-situ TEM用試料ホルダー先端　　　　加熱用チップ（中央部）　　　　加熱用チップ上のTEM用薄片試料
　　　　

　　　　　　　　　　　　　　　　＊粉末試料の場合はチップ上に分散

銀ナノインクの加熱 in-situ TEM観察 (150℃)

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　試料提供
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　山形大学有機エレクトロニクス研究センター　時任・熊木・関根研究室

磁気トンネル接合膜の加熱 in-situ STEM & EELS測定

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　試料提供
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　東北大学大学院工学研究科応用物理学専攻　安藤研究室
　

アモルファスSi (非晶質Si(a-Si)) 膜における加熱 in-situ TEM観察