09/24/2014
No.0039 ナノインプリント成形品の局所形状観察と構造評価
ナノインプリントは、低コストでナノメータ寸法のパターン成形が極めて簡便に作製できる加工技術として注目されており、記録素子・半導体回路素子・光-電気回路素子・導波路・光学素子・ディスプレイ・バイオセンサーなど幅広い用途への適用が期待されている。
ここでは、光(UV)ナノインプリントリソグラフィ-にて作製されたパターン成形品についての形状観察および構造評価の分析例を紹介する。
L/Sパターン形成部の形態観察
化学構造変化の分析
未露光のATR-FTIRスペクトルでは、架橋反応に関係するC=CH結合が明確に観測されている。パターン部(表面～界面)では、C=CH結合が観測されず最深部まで硬化反応が進行していることがわかる。
TEM・SEMを用いて、 L/Sパターン形状(設計寸法:100nm)の平面及び断面観察を行った。 L/Sパターン形状が明確に観測でき、LER(Line-Edge Roughness)等の詳細な定量解析も可能である。
化学構造変化の分析
最表面では離型剤によると思われるエチレンオキサイド(EO: C2H5O+)、プロピレンオキサイド( PO: C3H7O+)、フッ素化合物(F-)、スルホン(SO2-)の濃度が高く、表面近傍のやや内部でアミン(C4H12N+)の濃度が若干高くなっている。
分析機能と原理
カテゴリー
半導体・実装
分類
リソグラフィ