概要
Fig. 1 LA-ICP-MSの装置構成
太陽電池用シリコン中の不純物分布測定
Fig. 2 試料およびレーザー照射痕 ケミカルエッチングによる表面洗浄と予備照射を行ってから測定した(照射径:100mm)。
Fig. 3 シリコン中のFeの分布測定結果
Fig. 4 Feの分布シミュレーション
LA-ICP-MSにより、材料中の金属の分布分析や特定部位の不純物の高感度測定が可能である。 本法は高分子材料、金属、LSIデバイスチップ、生体試料など、様々な試料への適用が可能である。
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