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10/02/2014

No.0150 濃厚分散液中におけるナノ粒子のゼータ電位・粒径測定(CMPスラリー)

ナノ粒子は分散液として取り扱われることが多いが、性能を発揮させるには粒子の分散性を制御することが重要である。ここでは、分散性のパラメータであるゼータ電位・粒径分布について、これまで対応できなかった濃厚分散液に対して、pH依存性を調べた例を紹介する。

CMPスラリー原液中粒子のゼータ電位・粒径

各pHにおけるコロイダルシリカのゼータ電位と粒度分布

各pHにおけるコロイダルシリカのゼータ電位と粒度分布

各pHにおけるシリコンウェハ表面のゼータ電位

各pHにおけるシリコンウェハ表面のゼータ電位

分散液のpHが変わるとゼータ電位が変化し、ゼータ電位がゼロとなる点(等電点)では粒子が凝集しやすくなる。また、平板試料用セルによって測定したシリコンウェハ表面のゼータ電位は負の値を示した。これらの結果から、研磨を行うには、粒子の凝集・吸着の生じにくいアルカリ領域が適していることが推察される。


カテゴリー

材料・素材

分類

ナノ材料