07/29/2014
No.0005 高感度ラマン分光装置を用いた高速ラマンイメージング
－p-Si薄膜トランジスタのSi結晶性分布評価－
ラマン分光法は各種材料の組成、結晶性、結晶多型、キャリア濃度、応力等の評価が可能であり、また分光法としては比較的高い空間分解能(～1µm)を有す ることから、微小部領域での構造評価に極めて有効である。当社では高感度ラマン分光装置を導入し、従来よりも高速かつ簡便にラマンイメージを取得できるよ うになった。微小領域での構造変化をイメージとして捉えることによって、より詳細な構造評価が可能になる。ここでは、p-Si薄膜トランジスタのSi結晶 性分布評価をラマンイメージングを用いて行った結果を紹介する。
(a) pattern diagram
(b) a-Si image ( I455／I520 )
(c) a-Si image ( magnification of (b) )
p-Si薄膜トランジスタ(p-SiTFT)における結晶Si成分に対するアモルファスSi成分強度比イメージを示す。
トランジスタ形成時のイオン注入により、ソース・ドレイン近傍では結晶性が低下するが、後段のアニール処理においても結晶性が元の状態まで回復していない様子が観測される。
(d) Raman spectra
分析機能と原理
カテゴリー
IT機器
分類
液晶ディスプレイ