09/19/2018
No.0361 スピンプローブ法による酸化物が持つラジカル酸化力評価
酸化物粉体の表面には反応性の高いラジカルが生成する場合がある。SiCなど硬い物質の研磨に、TiO2やCeO2を用いたラジカル酸化反応を活用した効率的な研磨剤の開発も行われている[1]。今回紹介するスピンプローブ法を用いれば、酸化物表面のラジカル酸化力(H引き抜き能力)を簡便に評価する事ができる。
★試料
各種粉体(TiO2, CeO2, SiO2, Al2O3)
★測定条件
溶媒： フタル酸塩緩衝液(pH4.01)
攪拌方法： 超音波攪拌(5, 15分 at 暗所) |
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図1. 各種酸化物粉体の表面の酸化力の分析結果
★図1の攪拌15分の値より、SiO2はラジカル酸化力を有していないが、その他の試料では酸化力がある事がわかる。
ラジカル酸化力： CeO2 >> TiO2 > Al2O3
★TiO2は攪拌しても変化しないが、CeO2とAl2O3は攪拌するほど酸化力が強くなる。
★TiO2はUV光を積極的に照射しない場合、CeO2よりも酸化力が低いと推察される。 |
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カテゴリー
自動車, IT機器, 環境, 材料・素材, ライフサイエンス
分類
排ガス・排ガス触媒, 光触媒・触媒, 高分子材料, 金属・無機材料