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09/21/2018

No.0362 高分子中に生成する不安定ラジカルの検出

高分子の熱や光劣化時には、しばしば不安定ラジカルが生成する。通常ラジカルはESR法(電子スピン共鳴法)を用いて検出されるが、不安定ラジカルの場合は寿命が短いため検出できない事も多い。当社では測定法を工夫する事で不安定ラジカルであっても検出が可能である。

高分子の劣化反応 (ラジカル的な反応イメージ)

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高分子の劣化反応 (ラジカル的な反応イメージ)

(1) 光照射で生成するラジカル検出

凍結後に光照射する事で、生成した不安定ラジカルを安定化できる

光照射で生成するラジカル検出

ポリオキシメチレン(POM)のESRスペクトル(UV照射後)

ポリオキシメチレン(POM)のESRスペクトル(UV照射後)


(2) 加熱で生成するラジカル検出

不安定ラジカルを安定ラジカルに変換して測定できる

加熱で生成するラジカル検出

ラジカル量 vs. 加熱温度 プロット(加熱 in-situ ESR測定結果)

ラジカル量 vs. 加熱温度 プロット(加熱 in-situ ESR測定結果)

まとめ

分析機能と原理


カテゴリー

自動車, IT機器, 環境, 材料・素材, ライフサイエンス

分類

光触媒・触媒, 高分子材料, 有機材料・化成品