ホウ素の気中濃度の異なる環境(～600ng/m³)にSiウエハを静置して、その吸着量の経時変化を調査した結果を示す(気中濃度の測定はインピンジャー捕集/ICP-MS法で実施している)。ホウ素は、HEPAフィルターのアウトガスとして、クリーンルーム内に発生源があると言われているが、このような評価により、Siウエハに比較的短時間で吸着することや、クリーンルームの気中での濃度との相関を調べることができる。