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10/03/2014

No.0164 混合ガス前処理システム

主に触媒分析への適用を目的として、加熱や混合ガスの前処理が行えるシステムを導入し、触媒への複雑な前処理を容易に行えるようにした。XPS、TPD-MS、形態観察等in situ測定ができない装置の前処理に使用する。処理を行ったサンプルは、外気に触れることなく各装置の試料ホルダーにセットすることが可能である。

概要

昇温、ガスの切り替えや流量の制御、混合比の設定などがプログラム可。
同時に2サンプルの前処理可。
昇温温度 室温~1100℃まで可能。
反応管内部にも熱電対をセットし、サンプルに近い領域の温度をモニター。
N2, O2, H2, CO, CO2, NOx, SOx, HC(炭化水素)など任意の混合ガス処理が可。
例)400℃でのH2還元処理→300℃降温
後N2パージ→300℃にて模擬排ガス雰囲気
(例えばNO 500 ppm O2 0.5% H2 0.18% CO 0.5% HC 450 ppm / N2)で処理など。
水への加熱+水蒸気の混合も可能。

新規混合ガス前処理システムの全様

新規混合ガス前処理システムの全様




カテゴリー

自動車, 環境, 材料・素材

分類

排ガス・排ガス触媒