close

01/19/2015

No.0235 デプス専用TOF-SIMSによるSi半導体の微小領域における高感度分析

TOF-SIMS装置の半導体専用化、改造、および測定条件の最適化により、ダイナミックSIMSでは困難な微小領域において、ppmオーダーの高感度分析が可能となった。

TOF-SIMSによる微小領域(約15μm□)のCZ-Si中O, Hの分析事例

試料の顕微鏡像と断面構造

15μm□のデプスプロファイル

同条件によるFZ-Siのデプスプロファイル

サマリーキャプション


TOF-SIMSによる微小領域(約5μm幅)のSi中As, Pの分析事例

デプスプロファイル

試料パターンとデプスプロファイル抽出領域

二次イオン像とサマリー



分析機能と原理


カテゴリー

半導体・実装

分類

LSI・IC・メモリ