10/02/2014
No.0159 レジスト露光時の発生ガス分析
レジストを露光する際、その光の強さや条件に応じてレジストから様々なガスが発生する。これらのガスは、露光装置に汚染や腐食など悪影響を及ぼす化合物が含まれることがある。最近では、特徴的な波長を用いるEUVを用いた露光が実用化されつつあるなど、露光時の発生ガスも多種でなおかつ極微量になってきている。
当社では、こういったニーズに応えるべく、各種波長・強度の露光装置を用い、レジスト露光時に発生するガスの分析への応用展開を進めている。ここではその一部を紹介する。
発生ガス捕集の概要
露光時発生ガス分析に用いる露光装置の例を示す。アウトガス捕集の他、レジストのパラメータ測定を行うことも可能である。
(協力：リソテックジャパン株式会社）
レジスト露光時の発生ガス分析
・ | ArFレジスト露光時の発生ガスを、熱脱離GC/MS法を用いて分析した。
レジスト由来の1,3,5-Trioxane、PAG（光酸発生剤）由来のBenzeneなどが検出されている。 |
・ | 保護基の影響を受けないレジストに既知濃度のPAGを添加したモデルレジストを作成し、それぞれ露光時に発生するスルホン酸を定量した結果、PAG濃度と酸発生量の関係には直線性があることがわかった。 |
熱脱離GC/MS法による測定例
PAG濃度とスルホン発生量の関係
イオンクロマトによる測定例
分析機能と原理
カテゴリー
材料・素材, 半導体・実装
分類
加熱発生ガス, リソグラフィ