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09/24/2014

No.0038 液浸リソグラフィ-プロセスにおける溶出・拡散解析

トップコート(TPS)有無による溶出挙動変化

トップコート(TPS)有無による溶出挙動変化1

トップコート(TPS)有無による溶出挙動変化2

トップコートを使用していない系では、表面から約30nmの深さまでPAGの溶出が起きていることが確認された。一方、適切なトップコートを使用した系では、このような溶出は検出されなかった。

トップコート(TPS)有無による溶出挙動変化

光酸発生剤(PAG)の分解(酸発生、露光強度分布)挙動の深さ方向解析

光酸発生剤(PAG)の分解(酸発生、露光強度分布)挙動の深さ方向解析1

光酸発生剤(PAG)の分解(酸発生、露光強度分布)挙動の深さ方向解析2

分析機能と原理


カテゴリー

半導体・実装

分類

リソグラフィ