01/16/2018
No.0341 Si＆SiC基板の高感度不純物分析 － ICP-MS －
ICP-MSは、金属元素の高感度・高精度測定が可能で、各種半導体基板表面の不純物分析に有用である。基板と元素毎に最適な前処理方法で、種々の不純物元素を定量的に評価できる。
Si基板表面の不純物分析
図1 Si基板表面不純物の分析フロー
図2 分析対象元素
基板上金属不純物の回収試験
各元素について、2.5～10 ng 強制汚染させたSiおよびSiC基板表面を一般的な前処理方法で分析し、
回収率を求めた。
図3 金属元素の添加回収試験結果
前処理方法の最適化
図4 Si基板表面からの不純物の回収 図5 SiC基板表面からの不純物の回収
●回収液などの前処理方法を最適化することで、種々の元素の回収率を向上することができた。
分析機能と原理
カテゴリー
半導体・実装
分類
パワーデバイス・ディスクリートデバイス